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「禁止纯文生图」不是口号：patent-disclosure-skill线稿门禁的安全设计哲学

【免费下载链接】patent-disclosure-skill中国专利.skill：专利点挖掘与交底书（发明/实用/外观）编写，通俗解读专利，嗅探政策动向，辅助审查答复。项目地址: https://gitcode.com/GitHub_Trending/pa/patent-disclosure-skill

patent-disclosure-skill是一个中国专利技能开源项目：它能挖掘专利点、编写发明/实用新型/外观设计的交底书、通俗解读专利、嗅探政策动向并辅助审查答复。其中最有"安全感"的一处设计，是线稿门禁机制——把"禁止纯文生图"从一句口号，变成了会真正拒绝执行的代码关卡 🚪。

为什么"AI 画专利图"需要设卡

专利附图不是艺术创作，而是技术证据。如果只凭一段文字提示让 AI 自由发挥（即"纯文生图"），它可能会：

• 凭空"发明"参考图里不存在的内部结构
• 画出不符合国知局规范的比例与轮廓
• 给部件标上自创的序号，导致说明书与附图对不上

这些在交底阶段看似无伤大雅，一旦流入申报文件就可能埋下审查隐患。所以 patent-disclosure-skill 的态度很明确：可以辅助，但必须有图可依。

第一道门：默认关闭，用户点头才放行

整个辅助线稿流程默认关闭（off by default）。规则写在流程提示词里：

• 未经用户明确回复"是"，不得生成线稿描述文件，不得调用任何出图工具
• 只有当材料中已至少有一张产品相关图时，才会反问一句"是否开启辅助线稿？"
• 没有任何图片？不反问、不绕路——直接要求补图，无图则禁止进入该流程

对应源码在 prompts/shared/design_lineart_assist.md（外观）与 prompts/shared/structure_lineart_assist.md（实用新型）。

第二道门：代码级校验，无图直接拒绝

口头承诺靠不住，所以项目把规则固化成了门禁脚本：

• tools/shared/design_lineart_gate.py —— 外观设计线稿门禁
• tools/shared/structure_lineart_gate.py —— 实用新型结构线稿门禁

校验逻辑非常直白，核心函数validate_brief会逐条检查描述文件（brief）：

1. 每一视图的source_paths必须非空，否则报错"缺少 source_paths（禁止纯文生图）"
2. 路径必须指向真实存在的文件，否则报"源图不存在"
3. 实用新型还要求件号必须与structure_schema.parts对齐，名称不一致也拒绝 ✅

校验不通过，门禁直接拒绝出图任务；全部通过才会写出 jobs 文件（含参考图路径与提示词），供宿主环境"图生图"。相关行为在单元测试 tests/shared/test_design_lineart_gate.py 中有覆盖，包括"默认关闭""无图拒绝""有图可出 jobs"三种场景。

第三道门：实用新型的"轮廓与序号分层"

实用新型的结构线稿门禁比外观更严格，因为部件序号是审查对图的命门。它设计了三种标注模式（callout_mode），默认推荐overlay：

件号必须抄自 references/schemas/structure_lineart_brief.schema.yaml 中定义的部件表，禁止模型自创编号——这正是图中那些整齐的引出线序号能"对得上说明书"的原因。

生成的线稿，默认"不入正文"

门禁放行之后还有一层纪律：辅助线稿写回figure_plan.yaml时默认use_in_disclosure: false，只作为交底草稿供代理人参考；成文时禁止写成"已按国知局规范绘制的正式视图"。原始实拍/参考图（如 examples/example_utility_model_snap_heatsink/knowledge/assets/fig1_assembly_side.png 这类原始附图）始终保有证据地位，AI 线稿不能越位。

小结：安全设计哲学的三层递进

patent-disclosure-skill 的线稿门禁用三层机制回答了"AI 辅助能不能用于专利文档"：

1. 权限层：默认关闭，用户明确同意才开启
2. 校验层：代码强制"无参考图即拒绝"，杜绝纯文生图
3. 纪律层：件号对齐部件表、线稿默认不入正文、禁止冒充申报终稿

这套"能拒绝的 AI"设计，对任何把生成式 AI 引入严肃文档场景的开源项目，都具有很好的参考价值 📌。

【免费下载链接】patent-disclosure-skill中国专利.skill：专利点挖掘与交底书（发明/实用/外观）编写，通俗解读专利，嗅探政策动向，辅助审查答复。项目地址: https://gitcode.com/GitHub_Trending/pa/patent-disclosure-skill